化学修飾・化学反応編
シクロデキストリンの最新技術がまとめられた「シクロデキストリンの応用技術」（シーエムシー出版、監修：寺尾啓二、小宮山真、2008年2月発行）より抜粋
化学修飾シクロデキストリンの工業的生産
- 工業的生産が可能なCD誘導体とは
- CD化学修飾化の目的と用途
- 水溶化CDとその用途
- 有機溶媒に可能なCDの用途
- 非水溶性トリアシル化CDと用途
- 高分子表面の改質、特性付加反応性CD誘導体と用途イオン性CD誘導体と用途
- CDの高分子化について
酵素修飾
- 歴史
- 枝切り酵素
- ガラクトシダーゼ
- マンノシダーゼ
- N-アセチルヘキソサミニダーゼおよびリゾチーム
- グルクロニダーゼ
- まとめ 高分子化について
有機合成・触媒反応とその工業化ポテンシャル
- CD-基質非結合的反応
- 芳香族の選択的置換反応
フェノールの高選択的ヨウ素化とホルミル化およびカルボキシル化反応
2-ナフタレンカルボン酸の高選択的カルボキシル化による2,6-ナフタレンジカルボン酸の選択的合成 - 相間移動触媒反応複素ビシクロ環化合物の簡便合成
長鎖末端オレフィンのワッカー酸化によるメチルケトン類の合成およびヒドロホルミル化によるアルデヒド類の合成 - 不斉合成反応
- 芳香族の選択的置換反応
- CD-基質結合的反応
- 加水分解触媒反応
エステルおよびアミドの加水分解 - アミド合成反応
- 加水分解触媒反応
蛍光性シクロデキストリンによる分子認識
- 蛍光性修飾CDの合成
- ホモ修飾β-、γ-CDの合成
- ヘテロ修飾体β-、γ-CDの合成
- ホモ修飾ダイマーβ-、γ-CDの合成
- ホモ修飾トリマーβ-CDの合成
- 上縁部及び下縁部ヘテロ修飾CDの合成
- 下縁部キャップ化蛍光CDの合成
- ホモ修飾β、γ-CDの分子センシング及び分子認識機構
- ヘテロ修飾β-、γ-CDの分子センシング及び分子認識機構